RADIOISOTOPES

Online ISSN: 1884-4111 Print ISSN: 0033-8303
RADIOISOTOPESは日本アイソトープ協会が発行する学術論文誌です
Radioisotopes 66(11): 549-556 (2017)
doi:10.3769/radioisotopes.66.549

特集Special Issues

20　リソグラフィと放射線化学—レジストの放射線化学反応機構—20 Lithography and Radiation Chemistry—Radiation-induced Reaction Mechanisms of Resist Materials—

田川 精一Seiichi Tagawa

大阪大学産業科学研究所The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University ◇ 567–0047　大阪府茨木市美穂ヶ丘8–1 ◇ 8–1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567–0047, Japan

発行日：2017年11月15日Published: November 15, 2017
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半導体の大量生産のための放射線を用いたリソグラフィの歴史，リソグラフィへの放射線化学の貢献，リソグラフィの今後の発展に対する放射線化学への大きな期待を紹介する。

History of the lithography for high volume manufacturing of semiconductor devices based on ionizing radiation, the contribution of radiation chemistry to the lithography, and the big expectation of radiation chemistry in the development of the future lithography are introduced.

Key words: lithography; radiation chemistry; electron beam (EB) resist; extreme ultraviolet (EUV) resist; chemically amplified resist; photosensitized chemically amplified resist (PSCAR); next generation lithography (NGL)

© 2017 公益社団法人日本アイソトープ協会© 2017 Japan Radioisotope Association

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